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1、氧化液组成及工艺条件如下： 名 称 含量(ml/L) 硫酸(H2SO4) 100～200 电压/V 3~12 氧化时间/min 20~120 电源 直流 阴阳极面积比 1～5 温度/℃ 20~30 平均电流密度/A•dm-2 0.3～10 1) 当硫酸(H2SO4)溶液浓度较高时得到的膜容易上色，且颜色较深，膜的空隙率较大；当硫酸(H2SO4)溶液浓度较低时，膜上色微慢，且颜色较浅，膜的空隙率较小。

2、所以要想制得吸附力强，富有弹性的膜可以用浓度较高的氧化液，如果要想硬质而耐磨的氧化膜可以用浓度较低的氧化液。

3、 2) 阳极氧化时，初始电流密度对氧化膜的结构影响很大。

4、过高的电流密度会使试件的边缘膜出现烧焦状态，还会致使氧化膜非常粗糙。

5、因此，阳极氧化过程中，电流密度应逐步升高到一定值，以后的氧化过程中，电压波动也最好不要超过2V。

6、当电流密度超过3 A•dm-2时，随着电流密度的增加，氧化膜的耐蚀性反而降低，但在电流密度不超过3 A•dm-2的时候，随着电流密度的增加，氧化膜的空隙率也增多，易于染色，耐蚀性也较好。

7、 3) 在1h之内，氧化膜的生长与氧化时间成正比。

8、但氧化时间过长时，由于氧化膜的表面被电解液溶解，氧化膜的孔径逐渐变大，膜层也变得粗糙起来。

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